三氟化氮有毒，三氟化氮比氨气小的多原因

三氟化氮有毒吗

三氟化氮有毒，属于低毒物质。

三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

三氟化氮的用途：

三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于１.５微米的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。

三氟化氮比氨气小的多原因

因为 能够给出电子才称之为路易斯碱

但是F的电负性极大，会使得N上的孤对电子难以给出

所以，不显碱性。而氨气就不一样了，H的电负性很小，使得N上的孤对电子容易给出。所以路易斯碱性强。因为氨气中，NH3 分子之间容易形成氢键，使得氨气的分子间作用力要大于三氟化氮（虽然三氟化氮的分子量要大于氨气 ）

三氟化氮与水反应方程式

三氟化氮和水的反应方程式为3NF3+5h3O=9HF+2NO+NHO3。 

为什么三氟化氮不水解

NF3不水解，这是因为N无可利用的d轨道，F也无可利用的d轨道

三氟化氮的键长

三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂。

很显然，三氟化氮没有固定的键长。

三氟化氮有极性吗

是的。三氟化氮空间结构类似于氨气，三角锥形，是极性分子。

NH3是三角锥形分子。因为负电荷中心在N原子处。而正电荷中心氨分子是极性分子，甲烷是非极性分子。氨是一个氮原子与3个氢原子构成的。

氟化氮性质

有毒。三氟化氮，常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体。

三氟化氮是低毒性物质，但它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜，腐蚀组织。吸入高浓度NF3可引起头痛、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度NF3能损伤牙齿和骨骼，使牙齿生黄斑，骨骼成畸形。

三氟化氮可以和氢气瓶放一间房里吗

当然不能，因为三氟化氮在常温常压下为有霉味的无色有毒气体。常温下稳定，但是当受热或者遇到火焰、电火花等时能着火，甚至可能发生爆炸。氧化能力很强，与氢气、黄油、油、有机物等许多物质激烈反应而且能燃烧。与金属氧化物反应生成种种亚硝基化合物。溶于水。在100℃时，在碱的水溶液中，缓慢分解生成亚硝酸盐和氟化物。在21.1℃时在液体上方的饱和蒸气压为1480kPa。阳光照射会使气瓶与里面的气体温度升高从而导致压强升高，这样就可能产生危险。在使用氢气的过程中要注意远离火源，并且车间或实验室一定要有良好的通风。在使用钢瓶装氢气时，不要把瓶内的气体全部用光，因为这样会导致空气倒流进钢瓶，要留有一定的残余压力，具体数值可以咨询当地充装单位。

空气是一种无色无味不易燃无腐蚀性的气体

（1）根据反应物和生成物以及质量守恒定律可知反应还应有NH 4 F生成，则反应的方程式为4NH 3 +3F 2 =NF 3 +3NH 4 F， 故答案为：4NH 3 +3F 2 =NF 3 +3NH 4 F； （2）NH 3 存在氢键，而NF 3 只存在分子间作用力，两种作用力前者较强，物质的沸点较高， 故答案为：NH 3 分子间能形成氢键，NF 3 分子间只有范德华力； （3）与铜在同一周期，且未成对价电子数最多，可推知外层价电子排布为3d 5 4s 1 ，应为Cr，原子序数为24，根据能量最低原理、构造原理、洪特规则可写出电子排布式为1s 2 2s 2 2p 6 3s 2 3p 6 3d 5 4s 1 ， 故答案为：1s 2 2s 2 2p 6 3s 2 3p 6 3d 5 4s 1 （或[Ar]3d 5 4s 1 ）； （4）有题意可知该反应的化学方程式应为：6HF+NaAl0 2 +2NaCl═2HCl+2H 2 O+Na 3 AlF 6 ，该微溶物为：Na 3 AlF 6 ，中心离子为Al或Al 3+ ，配位数为6， 故答案为：Al或Al 3+ ；6．

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